Плазменное оборудование и технологии напыления порошковых материалов

В проекте представлены технология и плазменное оборудование для напыления и плазменной обработки порошковых материалов с помощью эектродугового плазмотрона ПНК – 50.
Принцип плазменного напыления основан на использовании тепловой и кинетической энергии плазменной струи (Т=5000÷20000°С; V=200÷2400 м/с), генерируемой плазмотроном.

Напыляемый материал, в виде порошка, вводят в плазменную струю, где он нагревается, плавится, ускоряется и переносится на напыляемую поверхность, в результате формируется требуемое покрытие из различных порошковых материалов.

Преимущества плазменного напыления:

• Работа в открытой атмосфере, высокая производительность;
• Возможность наносить покрытия из любых, в т.ч. тугоплавких материалов (металлы, сплавы, керамика, керметы и другие композиты);
• Толщина покрытий от десятков микрометров до нескольких миллиметров.

Стадия реализации проекта: Готовый